한국세라믹기술원, 산화갈륨 활용 반도체 본격 개발

한국세라믹기술원은 과학기술정보통신부의 나노 및 소재기술개발사업을 통해 전력반도체용 고품질 산화갈륨 단결정 기판 제조기술을 본격적으로 개발한다고 21일 밝혔다.

이를 위해 20일 한국세라믹기술원 진주 본원에서 이영국 한국연구재단 소재·부품단장 등 관계자 10명이 참석한 가운데 현판식을 가졌다.

산화갈륨(Ga₂O₃)은 친환경차에 적용되어 고전압 인버터의 고효율화 및 소형화를 할 수 있고 제조비용을 줄일 수 있는 반도체 소재로 2025년까지 전력반도체 시장의 10%를 차지할 정도로 급부상하고 있으나, 현재는 일본이 관련 시장을 독점하고 있다.

산화갈륨은 기존 실리콘(Si)이나 광대역 반도체 물질인 탄화규소(SiC), 질화갈륨(GaN)보다 우수한 성능이 기대되는 새로운 전력반도체 소재로써 크게 기판소재와 에피 소재로 구분할 수 있으며, 산화갈륨 기판 소재는 일본에서 5년 전 상용화가 되었다.

이를 극복하기 위해 정부는 한국세라믹기술원을 주축으로 공동연구팀을 구성하고 5년 동안 133억원을 투입하여 4인치급 산화갈륨 단결정 잉곳 및 장비·가공기판·에피 등의 소재와 장비 제조기술을 개발할 예정이다.

총괄기관인 한국세라믹기술원이 고품질 단결정 잉곳 성장 기술 개발을 담당하고, 동의대학교가 도핑 기술 개발, ㈜악셀이 성장 장비 기술 개발, 한국생산기술연구원이 기판 가공 기술 개발, ㈜루미지엔테크는 고속 박막 성장 기술 개발을 담당하게 된다.

이와 동시에 중소벤처기업부에서는 원료분말 소재 개발을, 산업통상자원부에서는 전력반도체 소자 개발을 함께 진행하는 다부처협업 형태(함께달리기 사업)로 진행되어 연구개발 효율화가 기대된다.

강진성기자

지난 20일 한국세라믹기술원 진주 본원에서 열린 전력반도체 과기부 컨소시업 현판식에서 참석자들이 기념사진을 찍고 있다.

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